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高頻功率放大器系列

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ASCENT? SERIES 30、40 和 60 kW 型號
產(chǎn)生電弧的工藝制程,它可以提供穩(wěn)定功率,以獲得可重復的高質(zhì)量薄膜。嚴格的質(zhì)量控制過程確??蛇_到比較高高可靠性。Effective Arc Management System? 功能可以熄滅電弧,防止不必要的薄膜損壞或制程中斷。同時 Set Point Compensation? 技術(shù)可以平衡設定點與濺射率,即使在電弧非常頻繁的情況下也能做到這一點。Ascent 電源配備了多種用戶界面和虛擬前面板軟件,易于設置和操作
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ASCENT® SERIES 30、40 和 60 kW 型號

產(chǎn)生電弧的工藝制程,它可以提供穩(wěn)定功率,以獲得可重復的高質(zhì)量薄膜。嚴格的質(zhì)量控制過程確保可達到最高可靠性。Effective Arc Management System? 功能可以熄滅電弧,防止不必要的薄膜損壞或制程中斷。同時 Set Point Compensation? 技術(shù)可以平衡設定點與濺射率,即使在電弧非常頻繁的情況下也能做到這一點。Ascent 電源配備了多種用戶界面和虛擬前面板軟件,易于設置和操作。您可以選擇主/從裝置,或利用 Arc-Sync? 技術(shù)以多個相鄰的陰極調(diào)節(jié)電源。不管您的配置如何,均可使用 Ascent 電源獲得穩(wěn)定、可重復的電源。

 

直流電源

低/中頻系列

網(wǎng)絡匹配器

射頻系列

射頻測量儀器

直流脈沖產(chǎn)品套件

 

Ascent®?Series

 

PINNACLE®系列

 

Pinnacle®?Plus+

 

Pinnacle®?3000

 

Pinnacle®?Diamond?

 

MDX 系列 500 W

 

MDX 系列 1 kW與 1.5 kW

Paramount®?RF


PDX®

 

PEII 低頻系列

 

LFGS

 

Crystal®

 

Ascent®?DMS 配件

 

Navigator®數(shù)位字匹配系統(tǒng)網(wǎng)絡

 

Navio? Digital Matching Network
 

Paramount®HF
 

Apex®

 

HFV®

 

Cesar®

 

 

 

HiLight?

 

 

 

Integro?

 

 GenCal?

 

 

我如何確定脈沖直流電源是否適合我的 FPD 制程? Visit our FAQ page for detail

作為擁有36年以上歷史的直流電源產(chǎn)品領先企業(yè),AE 為全球成千上萬的客戶提供服務,通過下列優(yōu)勢、解決客戶復雜的工藝問題,為客戶創(chuàng)造價值:

AE 的直流電源產(chǎn)品主要通過物理氣相沉積市場上主要使用的物理氣象沉積工藝——合金濺射以及與有反應氣體參與的反應濺射,AE電源廣泛應用于以下制造市場,包括:導體(銅、鋁、鉭、鈦以及更新的異類材料),板顯示器(薄膜晶體管、彩色濾光片、有機 LED),據(jù)存儲(光存儲、磁存儲以及磁光存儲相結(jié)合),陽能光伏電池(透明導電氧化物和硅沉積),筑玻璃,進產(chǎn)品應用(用于光學裝置、工具涂層、塑料等的薄膜)

可下載文獻

The Art of Choosing the Right Power Supply

 

Advanced Energy 的加速離子束源、電感耦合等離子源和大氣源技術(shù)為您的進階制程提供了成熟而現(xiàn)代化的設計。其成果是無縫整合、卓越的可靠性和進階功能性,推動、簡化您的制程工藝,使之更上一層樓。

遠端遠程等離子源 (RPS)
前極管道 PFC 治理
Xstream®遠程等離子源

離子源技術(shù)

 

等離子源

 

L前極管道 PFC 治理

 

Xstream® 遠程等離子源

溫度測量儀器

 

Sekidenko OR4000T and OR4000E

 

Sekidenko OR400T

高頻功率放大器系列
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ASCENT? SERIES 30、40 和 60 kW 型號
產(chǎn)生電弧的工藝制程,它可以提供穩(wěn)定功率,以獲得可重復的高質(zhì)量薄膜。嚴格的質(zhì)量控制過程確??蛇_到比較高高可靠性。Effective Arc Management System? 功能可以熄滅電弧,防止不必要的薄膜損壞或制程中斷。同時 Set Point Compensation? 技術(shù)可以平衡設定點與濺射率,即使在電弧非常頻繁的情況下也能做到這一點。Ascent 電源配備了多種用戶界面和虛擬前面板軟件,易于設置和操作
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產(chǎn)生電弧的工藝制程,它可以提供穩(wěn)定功率,以獲得可重復的高質(zhì)量薄膜。嚴格的質(zhì)量控制過程確??蛇_到最高可靠性。Effective Arc Management System? 功能可以熄滅電弧,防止不必要的薄膜損壞或制程中斷。同時 Set Point Compensation? 技術(shù)可以平衡設定點與濺射率,即使在電弧非常頻繁的情況下也能做到這一點。Ascent 電源配備了多種用戶界面和虛擬前面板軟件,易于設置和操作。您可以選擇主/從裝置,或利用 Arc-Sync? 技術(shù)以多個相鄰的陰極調(diào)節(jié)電源。不管您的配置如何,均可使用 Ascent 電源獲得穩(wěn)定、可重復的電源。

 

直流電源

低/中頻系列

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Ascent®?Series

 

PINNACLE®系列

 

Pinnacle®?Plus+

 

Pinnacle®?3000

 

Pinnacle®?Diamond?

 

MDX 系列 500 W

 

MDX 系列 1 kW與 1.5 kW

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HFV®

 

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作為擁有36年以上歷史的直流電源產(chǎn)品領先企業(yè),AE 為全球成千上萬的客戶提供服務,通過下列優(yōu)勢、解決客戶復雜的工藝問題,為客戶創(chuàng)造價值:

AE 的直流電源產(chǎn)品主要通過物理氣相沉積市場上主要使用的物理氣象沉積工藝——合金濺射以及與有反應氣體參與的反應濺射,AE電源廣泛應用于以下制造市場,包括:導體(銅、鋁、鉭、鈦以及更新的異類材料),板顯示器(薄膜晶體管、彩色濾光片、有機 LED),據(jù)存儲(光存儲、磁存儲以及磁光存儲相結(jié)合),陽能光伏電池(透明導電氧化物和硅沉積),筑玻璃,進產(chǎn)品應用(用于光學裝置、工具涂層、塑料等的薄膜)

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The Art of Choosing the Right Power Supply

 

Advanced Energy 的加速離子束源、電感耦合等離子源和大氣源技術(shù)為您的進階制程提供了成熟而現(xiàn)代化的設計。其成果是無縫整合、卓越的可靠性和進階功能性,推動、簡化您的制程工藝,使之更上一層樓。

遠端遠程等離子源 (RPS)
前極管道 PFC 治理
Xstream®遠程等離子源

離子源技術(shù)

 

等離子源

 

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溫度測量儀器

 

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